箱式真空气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

更新日期：2024-03-25

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高温气氛炉厂家采用双层壳体结构和PID程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进出气口，可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气

更新日期：2024-03-25

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气氛保护箱式炉1、高温限度1100℃至1800℃。$n2、炉膛材料采用进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，与传统炉膛材料相比节能60%，具有较强的抗骤冷骤热性。$n3、加热元件为电阻丝、硅碳棒、硅钼棒、钼丝，分别布置在炉膛内的左右二个面上，加热元件可以更换，炉内的温场稳定度±5℃。$n4、炉体采用双层炉壳结构，炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统，炉体上有进气口、出气口

更新日期：2024-03-25

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真空气氛电炉广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质量检测等。采用国内编程温控仪及触发模块和电器组成智能电控系统，确保控制度高，使用寿命长，易操作等特点。

更新日期：2024-03-25

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真空气氛烧结炉以电阻丝，硅碳棒，硅钼棒为加热元件，采用双层不锈钢壳体结构和宇电30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用进口氧化铝材料，双层炉壳间配有风冷系统。炉体采用整体密封，炉门采用高温硅胶密封，气体经过流量计后由炉罐进入，并有多处进气口，可以通氢气、氮气等气体，并能抽真空。

更新日期：2024-03-25

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气氛箱式炉技术指标： 1．额定温度：1350℃。 2．常用温度: 1300℃。 3．炉膛尺寸：400×300×300 mm（L×W×H）。 4．有效工作尺寸：300×260×260 mm（L×W×H）。 5．加热方式：上下加热。（暗火加热） 6．温度仪表：可编程序控制（40段程序）。 7．控制方式：可控硅移相调压。

更新日期：2024-03-25

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