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  • 1400度箱式气氛炉

    1400度箱式气氛炉适用于高校,科研院所,工矿企业做气氛保护烧结,气氛还原的理想设备。具有温场均匀,升降温速度快,节能,可通入多种气体等特点。

    更新日期:2021-11-23
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  • 1200度箱式气氛炉

    1200度箱式气氛炉 加热区域:深150*宽100*高100mm 工作温度:1100℃ 温度:1200℃ 真空度:-0.1Mpa 密封方式:304不锈钢 KF法兰 可通气氛:所有惰性气体,氮气、氩气、二氧化碳、水蒸气 升温速率:≤30℃/Min 控温度:±1℃ 加热元件:掺钼铁铬铝电阻丝 热电偶:K型 工作电压:20V 50HZ 功率:2KW 真空泵:VP125

    更新日期:2021-11-23
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  • 可控气氛箱式高温炉

    可控气氛箱式高温炉采用双层壳体结构和PID程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用外壳整体密封、盖板密封采用耐温硅胶、炉门采用硅胶垫,气体经过流量计后由后膛进出,有多处炉膛进出气口,可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,

    更新日期:2022-02-12
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  • 小型箱式气氛炉

    小型箱式气氛炉采用双层壳体结构和PID程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用外壳整体密封、盖板密封采用耐温硅胶、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进出,有多处炉膛进出气口,可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气

    更新日期:2022-01-25
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  • 箱式气氛保护高温炉

    箱式气氛保护高温炉 适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。

    更新日期:2021-10-06
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  • 预抽真空气氛炉

    预抽真空气氛炉应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验,还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型,额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃,根据不同的气氛,不同的温度,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

    更新日期:2021-09-03
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