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箱式高温气氛炉

箱式高温气氛炉

描述:箱式高温气氛炉额定温度分别为1100℃、1400℃、1500℃、1650℃,根据不同的气氛,不同的温度,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。本系列设备的成套供应范围有温度控制器、流量计、减压阀、热电偶、补偿导线等。温度控制采用可控硅控制,40段PlD高可编程温度自动控制,具有超温报警等保护功能,严格控制产品的烧制过程。

  • 更新时间:2020-11-08
  • 厂商性质:生产厂家
  • 产品厂地:郑州市
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详细信息
品牌中奥菲达升温速度(达到最高温)40min
内部尺寸200x200x200mm加热方式硅碳棒
最大功率4000W控温精度1℃
最高温度1400℃价格区间1万-2万
仪器种类箱式炉产地类别国产
应用领域医疗卫生,环保,化工,生物产业,综合

箱式高温气氛炉概述:

      本系列产品,额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的密退火与微晶化、晶体的密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。

特点:

1.设备主体采用双层钣金结构,双层钣金之间装有风机,加强对流,,设备外表面温度低。

2.炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽真空口。

3.炉膛材料采用优质氧化铝多晶纤维真空吸附制成,较传统耐火材料,热损耗低,保温效果优越,节能50%以上。

4.加热元件采用优质电阻丝,发热均匀,热效比高,使用寿命长。加热元件悬挂于炉膛内,维护简便。

5.温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、模糊控制、自整定能力等功能,可编制50段升降温控制程序程序。

6.炉膛有效区域内温场均匀性优异,经实地检测≤±5℃,符合国标二电炉标准。

7.炉内可以通氩气、氮气等多种气体,并能预抽真空,真空度可达-0.08MPa,气氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成,防漏气测试。 

箱式高温气氛炉参数:

项目

单位

AFD-4-1400

额定功率

KW

4

电压/频率

v/HZ

220v/50HZ

工作室尺寸

(深*宽*高)

300*200*200

温度

 

1400℃

工作温度

 

1300℃

空炉升温速率

 

≤20℃/min

温场均匀度

 

≤5℃/min

加热元件

 

硅碳棒

测温元件

 

S型热电偶

控温度

 

±1℃

温控方式

 

智能型程序模糊PID控制

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