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密真空气氛炉

密真空气氛炉

描述:密真空气氛炉广泛用于高校、科研院所、工矿企业等做粉末、电子、冶金、医药、陶瓷、新材料、化工、金属烧结和金属热处理等实验和生产理想设备。

  • 更新时间:2020-11-07
  • 厂商性质:生产厂家
  • 产品厂地:郑州市
  • 访问次数:74
详细信息
品牌中奥菲达升温速度(达到最高温)60min
内部尺寸300-200-120mm加热方式硅碳棒
最大功率4000W控温精度1℃
最高温度1400℃价格区间1万-2万
仪器种类真空炉产地类别国产
应用领域医疗卫生,环保,生物产业,综合

适用范围
      本设备广泛用于高校、科研院所、工矿企业等做粉末、电子、冶金、医药、陶瓷、新材料、化工、金属烧结和金属热处理等实验和生产理想设备。

 
密真空气氛炉真空气氛系统
      真空密封系统采用特种设计技术,具有操作安全、方便、真空度高,密封性好,真空保持时间长,密封采用不锈钢金属法兰及O型耐高温氟胶圈密封,气体经过流量计后由针型阀开关进入炉管内,阀控配有进气阀,排气、抽真空阀。减压阀,安全阀,可通多种气体、氩气、氮气、氧气、氧化碳、氨分解气等气体,可充入高压气体,气氛压力限值0.1MPa,采用独特的密封技术,可长时间保压,安全性能好,操作方便。


密真空气氛炉主要技术参数:

项  目

单位

有效使用尺寸

有效使用尺寸

有效使用尺寸

有效使用尺寸

炉膛尺寸

   mm

200X150X150

300X200X200

500X300X200

500X500X500

 温度类别

1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃

 控制度

±1℃

温度均匀度

≤1

≤1℃

≤1.5℃

≤2℃

加热元件

 

根据温度而定,采用优质电阻丝、硅碳棒、硅钼棒、石墨。

电压/频率

 AC/Hz

220/50

380/50

380/50

380/50

设计功率

KW

4

10

15

25

温控方式

 

微电脑智能调节技术,具有PID调节、全自动控制、自整定功能,多段程序编程,并可编制各种升温、保温、降温程序,控温度高;集成模块可控硅控制、移相触发。

 保护装置

独立超温保护、超压、超流、漏电、短路等保护,自动化程度较高,

主要附件

高温手套,坩埚钳,发热元件,门堵,合格证,说明书,质保书。

 可选配

无纸记录仪,有纸记录仪,电脑液晶触摸屏,人机画面
通讯联机功能,多台设备台电脑控制,打印与保存数据,实现操作简单方便,实时可查看与保存数据。

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