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真空气氛烧结炉

真空气氛烧结炉

描述:真空气氛烧结炉广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。

  • 更新时间:2020-11-09
  • 厂商性质:生产厂家
  • 产品厂地:郑州市
  • 访问次数:47
详细信息
品牌中奥菲达升温速度(达到最高温)40min
内部尺寸300x200x200mm加热方式硅碳棒
最大功率4000W控温精度1℃
最高温度1300℃价格区间1万-2万
仪器种类箱式炉产地类别国产
应用领域医疗卫生,环保,化工,生物产业,综合

产品简介:
  真空气氛炉又名无氧退火炉、真空气氛烧结炉等 物体在通入定气体的炉膛内进行烧结的方法。 不同的材料选择适宜的气氛烧结,有助于烧结过程,提高制品致密化程度、获得良好的性能的制品。真空气氛炉常用的有真空、氢、氧、氮和惰性气体(如氩)等各种气氛。例如透明氧化铝陶瓷可用氢气氛烧结,透明铁电陶瓷宜用氧气氛烧结,氮化物陶瓷如氮化铝等宜用氮气氛烧结。 有时为保护烧结调协也须在保护气氛中操作。如钼丝炉宜通氢,钨丝炉宜在真空条件下工作。
  气氛炉用途:
  真空气氛炉满足于不同工艺实验而殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
  真空气氛烧结炉原理:
  真空气氛炉是真空技术与热处理技术相结合的新型热处理技术,真空热处理所处的真空环境指的是低于个大气压的气氛环境,包括低真空、中等真空、高真空和超高真空,真空热处理实际也属于气氛控制热处理。真空热处理是指热处理工艺的部和部分在真空状态下进行的,真空热处理可以实现几乎所有的常规热处理所能涉及的热处理工艺,但热处理质量大大提高。与常规热处理相比,真空热处理的同时,可实现无氧化、无脱碳、无渗碳,可去掉工件表面的磷屑,并有脱脂除气等作用,从而达到表面光亮净化的果。
  真空气氛炉结构:
   ,电气部分:电气部分采用与气氛炉炉体体化结构,整个电气元件安装在炉体底部的侧,结构紧凑、占用空间小。温控安装在炉体侧面板上,观察直观,调节方便,温控仪具有PID调节功能,可自动跟踪设定PID值,可任意设定测量分度密码,同时具备补偿功能,可使炉膛温度与显示值致。
  二,炉体部分:炉膛采用莫来石聚轻砖砌筑,炉膛内上下用碳化硅棚板,炉内温度是加热元件在加热过程中经过碳化硅棚板传导(暗火加热),温度更均匀。炉壳密封。为提高该气氛炉的密封垫的使用寿命在炉门口设有循环水冷套以降低密封处的温度。进气设炉膛底部,经加热腔预热后分多处进入炉内,排气经炉顶后部排出。保证炉内气氛均匀,减小炉内温差。也就是说,不论是电气部分还是炉体部分,它们的结构性能都是互相力的,具有统性,也是实现箱式气氛炉功能的基本保证!

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