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分体式真空气氛炉

简要描述:分体式真空气氛炉采用双层壳体结构和PID程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用外壳整体密封、盖板密封采用耐温硅胶、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进出,有多处炉膛进出气口,可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,

  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-08-07
  • 访  问  量:1152

产品介绍

品牌其他品牌升温速度(达到最高温)60/min
内部尺寸200-200-200mm加热方式硅碳棒
最大功率6000kW控温精度1℃
最高温度1300℃价格区间1万-2万
仪器种类真空炉产地类别国产
应用领域医疗卫生,食品,生物产业,综合

分体式真空气氛炉主要用途:高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品工矿企业理想的实验和生产设备。

分体式真空气氛炉技术参数:

产品用途

适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、***材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。

设备型号

工作尺寸

炉膛容积

极限温度

工作温度

功率电压

 

 

AFDQ-1200QAF

 

200*150*150

4.5 L

 

 

   1200

 

 

 

    1100

 

4KW单相220V

300*200*200

12 L

7KW单相220V

400*300*300

36 L

16KW两相380V

500*300*300

45 L

20KW三相380V

500*400*400

80 L

25KW三相380V

正负压力

工作真空度  -0.1MPa;工作压力  0.02MPa

可充气氛

氮气,氧气和氩气及其它惰性气体

开门方式

侧开式,自右向左

壳体结构

双层,壳体间风扇制冷,可使炉体表面快速降温。

节能效果

保温时仅需40%功率

显示模式

LED数显仪表,可选配豪华型智能触摸屏仪表,实时曲线显示,也可用U盘导出数据,在电脑上安装查看软件。

控制模式

智能PID调节、模糊控制、自整定功能

温度曲线

30段可编程控制,可设置30段升降温程序

测温元件

 K型热电偶

加热元件

 硅钼棒,温场均匀,能耗低,升温速率建议:10/Min Max:20/Min

保温材料

1800型高纯氧化铝微晶体纤维,保温性能好

售后服务

12个月质保(相关易耗件除外),终身保修

包装方式

三合板木质包装箱

电   线

标配2米,若需更长,请购买设备时提前说明,需另购

坩    

我司有各种规格的坩埚,需要可咨询业务人员

控制扩展

 可选配485转换接口,实现与计算机相互连接。选配的电脑控制系统来完成与单台或多达200台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。为客户提供方便,本公司也可以代购电脑。

随机配件

防护手套1双;坩埚钳1把;坩埚1只;耐高温垫砖1块;

产品说明书1份;仪表说明书1份;保修1份。

非标订制

   此型号适合小型实验用

若批量生产用,可根据实际需要订制更大炉膛,***1L,几个立方。

温度及炉膛尺寸均可根据客户要求进行定制!

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