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分体式真空气氛炉

简要描述：分体式真空气氛炉采用双层壳体结构和PID程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用耐温硅胶、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处炉膛进出气口，可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，

厂商性质：生产厂家
更新时间：2024-03-27
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产品介绍

品牌	其他品牌	升温速度（达到最高温）	60min
内部尺寸	200-200-200mm	加热方式	硅碳棒
最大功率	6000W	控温精度	1℃
最高温度	1300℃	价格区间	1万-2万
仪器种类	真空炉	产地类别	国产
应用领域	医疗卫生,食品,生物产业,综合

分体式真空气氛炉主要用途：高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品工矿企业理想的实验和生产设备。

分体式真空气氛炉技术参数：
产品用途	适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、***材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。
设备型号	工作尺寸	炉膛容积	极限温度	工作温度	功率电压
AFDQ-1200QAF	200150150	4.5 L	1200℃	≤1100℃	4KW单相220V
	300200200	12 L			7KW单相220V
	400300300	36 L			16KW两相380V
	500300300	45 L			20KW三相380V
	500400400	80 L			25KW三相380V
正负压力	工作真空度 ≤ -0.1MPa；工作压力 ≤ 0.02MPa
可充气氛	氮气，氧气和氩气及其它惰性气体
开门方式	侧开式，自右向左
壳体结构	双层，壳体间风扇制冷，可使炉体表面快速降温。
节能效果	保温时仅需40%功率
显示模式	LED数显仪表，可选配豪华型智能触摸屏仪表，实时曲线显示，也可用U盘导出数据，在电脑上安装查看软件。
控制模式	智能PID调节、模糊控制、自整定功能
温度曲线	30段可编程控制，可设置30段升降温程序
测温元件	K型热电偶
加热元件	硅钼棒，温场均匀，能耗低，升温速率建议:10℃/Min Max:20℃/Min
保温材料	1800型高纯氧化铝微晶体纤维，保温性能好
售后服务	12个月质保（相关易耗件除外），终身保修
包装方式	三合板木质包装箱
电源线	标配2米，若需更长，请购买设备时提前说明，需另购
坩埚	我司有各种规格的坩埚，需要可咨询业务人员
控制扩展	可选配485转换接口，实现与计算机相互连接。选配的电脑控制系统来完成与单台或多达200台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。为客户提供方便，本公司也可以代购电脑。
随机配件	防护手套1双；坩埚钳1把；坩埚1只；耐高温垫砖1块；产品说明书1份；仪表说明书1份；保修1份。
非标订制	此型号适合小型实验用若批量生产用，可根据实际需要订制更大炉膛，***小1L，几个立方。