迷你型真空气氛管式炉采用双层壳体结构，炉膛材料采用高纯氧化铝，壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃，内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。 适用范围：主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛

更新日期：2025-11-10

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1400℃真空管式炉技术参数： 用途概述：管式炉采技术，有单管、卧式、可开启式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。具有安全可靠、操作简单、控温度高、保温效果好、温度范围大、温场均匀性高、温区多，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火用的理想产品. 为实验单位提供具有真空、可控气氛及高温的实验条件下做元素分析、物理测定、等加热实验。并应用在半导体、纳米、碳纤维

更新日期：2025-11-10

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可倾斜式高温管式炉可360度旋转，管壁内有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结的更均匀，用于电池正负材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料选择在真空下或者气氛保护下进行烧制。连接气路管道的情况下依然可以旋转石英管。

更新日期：2025-11-10

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七温区真空管式炉1200℃七温区真空管式气氛炉可以独立设置每个温区的参数，独立开启/关闭控制，可同时作业多种不同温区需求材质。也可将多个温区设定为同温度点，即可作为加长的单温区使用。它延续了单温区管式炉的经典设计，美观与实用同在！工程师们巧妙地在合金加热丝里边掺入定比例的钼元素，使得表面温度可以达到1200℃，大大地延长了该设备的使用寿命。

更新日期：2025-11-10

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1200℃微型开启式管式炉AFD-1200X-S是小型管式炉，工作限制温度为1200℃，功率限制为1200W，可配置直径为1“或2“的高纯石英炉管。炉管两端配置对不锈钢法兰，设有机械压力表、不锈钢截止阀和宝塔嘴接头，允许样品在真空和气体保护下进行烧结。

更新日期：2025-11-10

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五温区独立控制管式炉AFD-1200X-V（定制）采用独立的温控装置，可离开炉体进行温控操作，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度，或形成较长的恒温区域。本机具有控温度高，保温效果好，温度范围大，温度均匀性高，温区多，可通气氛抽真空及安全可靠、操作简单等特点。

更新日期：2025-11-10

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