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- 1000度开启式管式炉
1000度开启式管式炉采用双层壳体结构和50段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,炉管两端用不锈钢法兰密封,法兰用不锈钢支架支撑着,用流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
- 更新日期:2026-10-06
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- 1300度硅碳棒管式炉
1300度硅碳棒管式炉采用双层壳体结构和50段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,刚玉管两端用不锈钢法兰密封,法兰用不锈钢支架支撑着,用流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
- 更新日期:2026-09-06
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- 1200℃不锈钢真空气氛管式电炉
1200℃不锈钢真空气氛管式电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体,纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。
- 更新日期:2025-11-12
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- 双温区管式炉 高温真空气氛炉 非标定制
双温区管式炉 高温真空气氛炉 非标定制,集成智能化压力保护功能,可燃气体检测功能,压力均衡功能,智能进气,云端数据存储等功能,30段人机界面控温,温度可以达到1200℃。此高温管式炉特别适合于在气氛保护或真空的环境下对样品进行退火和烧结。炉管上下均匀分布加热元件,温场均匀。
- 更新日期:2025-11-12
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- 大学实验室用管式气氛炉
大学实验室用管式气氛炉 真空气氛,集成智能化压力保护功能,可燃气体检测功能,压力均衡功能,智能进气,云端数据存储等功能,30段人机界面控温,温度可以达到1200℃。此高温管式炉特别适合于在气氛保护或真空的环境下对样品进行退火和烧结。炉管上下均匀分布加热元件,温场均匀。
- 更新日期:2025-11-12
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- 小型实验管式炉 小型高温管式炉
小型实验管式炉 小型高温管式炉采用双层壳体结构和50段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,刚玉管两端用不锈钢法兰密封,法兰用不锈钢支架支撑着,用流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
- 更新日期:2025-11-12
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