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1200℃迷你型真空气氛管式炉

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产品详情:

AFD1200-50 1200℃迷你型真空气氛管式炉 采用双层壳体结构,炉膛材料采用高纯氧化铝,壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃,内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。

适用范围:

主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,应用于高、中、低温CVD工艺,如碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜,金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。

技术参数:

产品名称

1200℃迷你型真空气氛管式炉

产品型号

AFD1200-50

炉管尺寸

Φ50*600mm  更多尺寸可供选择

温区长度

200mm   更多尺寸可供选择

恒温区长

100mm   更多尺寸可供选择

炉膛材料

高纯氧化铝纤维

高工作温度

1200 ℃

正常工作温度

≤1100 ℃

温  控

采用PID方式调节,可设置30段升降温程序
温控度:± 1℃
具有超温及断偶报警功能

加热速率

0~20 ℃ / 分

11111加热元件

掺钼铁铬铝电阻丝

工作电压

AC 208-240单相, 50/60 Hz 

大功率

2.5KW

真空密封系统

炉管两端采用KF法兰进行密封,密封圈为硅胶密封圈 

温度测试元件

K型热电偶测温

净  重

35 Kg

炉  管

石英管