本设备是由石英坩埚（或氧化铝陶瓷坩埚）和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。
真空井式坩埚炉参数说明
型号 | AFD-1200T | AFD-1400T | AFD-1700T |
工作温度 | ＞1200℃ | ＞1400℃ | ＞1700℃ |
加热元件 | 电阻丝 | 硅碳棒 | 硅钼棒 |
热电偶 | K型 | S型 | B型 |
控温方式 | 31段可编程自动控制，PID调节控温度 | ||
升温速率 | 0-10℃ | 0-20℃ | |
控温度 | ±1℃ | ||
大真空度 | -0.1MPa | ||
炉膛材料 | 氧化铝陶瓷纤维板 | ||
炉壳 | 双层炉壳，风冷结构（炉底安装两个散热风扇），炉壳表面温度低于60度 | ||
额定功率 | 1KW—8KW | ||
常用炉膛尺寸 | Φ240xH220mm；Φ40xH300mm；Φ60xH300mm； Φ80xH300mm；Φ100xH300mm；Φ120xH300mm | ||
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