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真空井式坩埚炉的结构及参数说明

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真空井式坩埚炉是由氧化锆坩埚或者氧化炉坩埚。工作温度区间800℃至1600℃。该系列设备的控制系统,具有安全可靠,操作简单,控温度高,保温效果好,炉膛温度均匀性高,可通气氛抽真空等特点,广泛应用于高等院校,科研院所,工矿企业等实验和小批量生产。 真空井式坩埚炉以进口含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,具有真空装置,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
主要用途:高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。
技术参数

产品型号AFD-2-17TP
工作电源AC220V 50/60HZ
炉膛尺寸外径150x内径130x高200mm
额定功率≤6kw
外形尺寸450x550x650mm
重量70kg
升温快速度0~30℃/min(建议不超过20℃)
产品特点可装真空装置,能在多种气氛下工作,50段程序控温
加热元件优质硅钼棒
常用温度≤1500℃
高温度1600℃
控温方式50段智能化程序PID模糊控制
恒温度±1℃
控温仪表智能温控仪
密封方式全封闭
炉膛氧化铝多晶纤维炉膛,设计合理,经久耐用,保温性能好,节能
测温元件B型热电偶
炉门结构上开式
主要配件密封法兰1套,坩埚1个,真空泵1台,高温手套1副,热电偶1根等
大真空限≤0.1MPa

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