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1200℃高校实验坩埚炉订做

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1200℃高校实验坩埚炉订做主要用途:

AFD-1200-LG坩埚炉各项指标均达到了水平,主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片,也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。

1200℃高校实验坩埚炉订做技术参数:

产品名称

1200℃高校实验室坩锅炉

产品型号

AFD-1200-LG

炉膛有效尺寸

200x200mm(更多尺寸可供选择

正常工作温度

1100℃

温度

1200℃

温控系统

30段PID微电脑可编程自动控制 (温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序)(用户可选配液晶触摸屏显示)

控温度

±1℃

温控保护

具有超温和断偶保护功能

加热速率

0~20℃/分

加热元件

合金电阻丝

工作电压

AC 220V 单相 50HZ (电路电压用户可选择定制)

大功率

3KW

温度测试元件

K型热电偶测温,正后方测温

炉壳温度

≤45℃

净重

80KG

提供相关配件

坩埚钳、高温手套、热电偶、门堵

电气认证

CE认证