1200度箱式气氛保护烧结炉

1200度箱式气氛保护烧结炉的详细介绍设备名称箱式惰性气氛保护炉型号AFD1200-30AFD1200-40AFD1200-50AFD1200-60基本参数电源电压AC220V,50/60HzAC380V,50/60HzAC380V,50/60HzAC380V,50/60Hz外形尺寸（宽*深*高）845*755*1050mm1000*880*1300mm1140*1053*1485mm0000*0000*0000mm设备重量210Kg450Kg650Kg000Kg1200度箱...

1700℃管式炉Φ60/80

1700℃管式炉Φ60/80的详细介绍设备名称真空管式炉（封闭式）型号AFD1700-60AFD1700-60IIAFD1700-80AFD1700-80II基本参数电源电压AC220V,50/60HzAC220V,50/60HzAC220V,50/60Hz外形尺寸1200*640*1580mm1200*640*1580mm设备重量175Kg175Kg1700℃管式炉加热系统加热功率4Kw4Kw8Kw加热区300mm300mm300+300mm恒温区120mm（&pl...

1200度200管径管式炉（标准/双温区/三温区）

1200℃管式炉Φ200(标准/双温区/三温区)的详细介绍设备名称200管径管式炉（开启式）型号AFD1200-200AFD1200-200IIAFD1200-200III基本参数电源电压AC220V,50/60HzAC220V,50/60HzAC380V,50/60Hz外形尺寸（宽*深*高）1200*640*820mm1350*640*820mm1650*640*820mm设备重量115Kg135Kg160Kg管式炉加热系统加热功率6Kw8Kw12Kw加热区440m...

箱式气氛炉在行业中的应用及主要部分

箱式气氛炉在行业中的应用“箱式气氛炉”别名“气氛炉、管式炉、电阻炉、井式炉、氢气炉、钟罩炉、钼丝炉、升降炉等等”是种实验设备,适用于金属、纳米、单晶硅、多晶硅、电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，气氛热处理的加热设备钼丝炉、箱式气氛炉、井式气氛炉、真空管式炉用于材料或化学实验室，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。箱式气氛炉适用于工矿企业、大专院校、科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。可供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧...

管式炉CVD原理供气系统

管式炉CVD原理供气系统CVD(ChemicalVaporDeposition）原理CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积），指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。经过CVD处理后，表面处理膜密着性约提高30%，防止高强力钢的弯曲，拉伸等成形时产生的刮痕。CVD特点淀积温度低，薄膜成份易控，膜厚与淀积时间成正比，均匀...